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科研

《新型功率半導(dǎo)體器件VDMOS開發(fā)》項(xiàng)目通過吉林省科技鑒定

2007/7/22 | 來自:

吉林省科技成果鑒定公報(bào)


2007年第3期(總第3期)
吉林省科技廳發(fā)展計(jì)劃處              2007年5月30日


 

    按照《吉林省科技成果鑒定暫行辦法》相關(guān)規(guī)定,經(jīng)5月30日省科技廳廳長(zhǎng)辦公會(huì)審議,由我廳組織的“新型功率半導(dǎo)體器件VDMOS開發(fā)”等25個(gè)項(xiàng)目的成果鑒定符合鑒定規(guī)程,現(xiàn)予以公告。

 

成果名稱:新型功率半導(dǎo)體器件VDMOS開發(fā)

完成單位:吉林華微電子股份公司

成果來源:計(jì)劃外自選項(xiàng)目

批 準(zhǔn) 號(hào):鑒字[2007]第017號(hào)

成果簡(jiǎn)介:該項(xiàng)目對(duì)新型功率半導(dǎo)體器件VDMOS產(chǎn)業(yè)化關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行了開發(fā)。在器件結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)上,采取鈍角代替直角,減少了在溝道拐角處電荷的富集,減低了局域電場(chǎng),提高了器件的擊穿電壓;在器件制備工藝上,采用襯底粗糙技術(shù),降低了通態(tài)電阻;采用高能量As離子注入和薄二氧化硅保護(hù)層技術(shù)相結(jié)合,既避免了高能離子注入對(duì)半導(dǎo)體材料的損傷效應(yīng),又提高了界面截流子濃度,改善了均勻性;采用復(fù)合柵技術(shù),減低了柵極電阻,提高了器件的穩(wěn)定性。產(chǎn)品經(jīng)中國賽寶(吉林)實(shí)驗(yàn)室/吉林省電子信息產(chǎn)品監(jiān)督檢驗(yàn)研究院檢測(cè),主要性能指標(biāo)達(dá)到了fairchild公司同類產(chǎn)品水平。

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